光波技术基础
EDFA 掺铒光纤放大器（光放大技术）
WDM 波分复用技术（频分复用）
第一代激光器 波长 0.85微米，技术限制不能把波长做长。
第二代激光器 波长 1.31微米，最大中继距离50km，
第三代激光器 波长 1.55微米，单模（色散位移）光纤，比特率2.5-10Gb/s，中继距离100km，电中继。
第四代激光器 波长 1.55微米，波分复用技术（WDM），光放大技术（EDFA），传输距离14000km，
continuous wave (CW) light 连续光
直接调制，外调制
光纤制作过程
原料（
,
为主要材料）经过沉积（气象沉积工艺（MCVD，PCVD，管外沉积，OVD，VAD），非气相工艺，双坩埚发，溶胶-凝胶法，管棒法，粉末机械形成法），制作光纤预制棒（
,
），技术难点，纯度问题。
MCVD：利用氧气鼓泡携带原料瓶中挥发的
主要原料，
掺
,
减小折射率
掺
,
影响光信号传输的几个因素（0.2dB/Km）
- 损耗（1550nm最小，1310其次，1550色散不为0，现在一般用1550nm）
- 色散（不同频率在光介质中传播速度不同（折射率不同）（1310nm波色散为0），时域问题）
- 非线性（产生于WDM，不同频率波功率混杂，出现新频率波）
气相工艺
- 内部沉积（纯度可以保证）
- MCVD
- 2000摄氏度
- 氢气 + 氧气 外部燃烧
- 移动时，向一个方向移动迅速，一个方向移动慢。
- PCVD
- 武汉长飞光纤厂（Philips专利）（多模光纤工艺）
- 管外微波震荡器，
- 管子里产生等离子体，温度极高
- 石英管的外部温度低
- 加热器移动快，每一层可以玻璃可以做到很薄
- 缩棒仍需要氢氧焰外部加热
- MCVD
- 外部沉积（沉积速度快，效率高）
- OVD（Corning康宁）
- 沉积
- 火焰水解法：冷凝法？
-
,
混合燃烧，生成
- 可以做很粗，没有管大小的限制
- 先沉积内层，后沉积外层
- 固化
- 脱水（密闭容器，通入
和
将氢元素脱离，去除
）
- 高温烧结
- （
- 脱水（密闭容器，通入
- 拉丝（自然拉丝，喷涂保护层）
- 沉积
- VAD（日本大部分厂商NTT，古河，藤仓，住友）
- 立着的OVD（没有靶棒）
- OVD（Corning康宁）
拉丝
- 送料控制
- 加热炉
- 外径检测
- 冷却装置
- 涂敷及固化装置
- 收纤装置
